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MEMS光学真空计

产品概述

BA-FPP-VG 系列 MEMS 光学真空计是依托F-P 法布里-珀罗干涉+ MEMS 微加工技术开发的高精度绝压真空测量设备。MEMS光学真空计采用分体式设计理念区别于传统电学真空计,测量传感端无源工作,具备本安防爆、抗干扰能力强、耐腐蚀、耐辐照、抗强振动等技术优势,专门面向低真空工况精密压力监测。

整套系统由MEMS 光纤真空传感器+全光谱分析仪两部分光电分离组成,单台分析仪可挂载多路传感器,实现一表多点真空采集,传感器整体安装方式灵活,光电分离,传感器就近安装、无需供电、光纤长距离传输,无电磁干扰,信号在远程集中处理和显示。适配半导体、光伏、核能、电力等高严苛工业场景。

产品形态

图1 MEMS光学真空传感器产品图

优势特点

◆测量精度优异,长期性能稳定

  • ▸ 最高精度 ±0.25% F.S、分辨率0.01%F.S,全温区稳定、低漂移免校准;直测介质,抗气体组分干扰。

◆无源本安,环境适应性广

  • ▸ 无源本安防爆,抗电磁干扰;316L不锈钢+隔离膜片,耐强腐蚀,适配各类高危工艺工况。

◆可靠性高,宽温工况适配

  • ▸ 抗振、抗 320kPa 过载,宽温补偿抑制温漂,极端工况长期稳定。

◆动态采集,瞬时响应灵敏

◆响应<100ms、快速响应工况参数变化,满足动态工艺监测需求

◆光纤组网传输,远程运维便捷

  • ▸ 光电分离架构光纤传输,单主机可多路同步采集,铠装光缆、布线简便可靠,便于远程集中测控。

◆智能运维,通讯协议通用

  • ▸ 兼容多类工业标准通讯协议,4mA—20mA/(0—10)V 模拟量,TCP/RTU-MODBUS 数字以太网通讯,具备良好系统适配性与通用性。

◆规格配置齐全,定制能力突出

  • ▸ 设备量程与接口规格体系完备,量程覆盖 (0~1)torr 至(0~133.3)kPa,多种结构接口:M18 标准、KF16/KF25 真空接头可选。

应用领域

  • 半导体行业:刻蚀、薄膜沉积、离子注入、真空腔体低真空在线监测,耐半导体腐蚀性工艺气体,避免电磁干扰影响晶圆工艺;
  • 光伏行业:硅片镀膜、扩散炉、真空烧结、薄膜光伏生产线真空闭环控制,耐高温、抗车间设备振动;
  • 核能行业:真空管路、辐照环境真空监测;
  • 电力行业:变压器真空注油、GIS 真空检漏、火电厂真空脱硫管路,强电磁环境稳定测量;
  • 通用工业真空场景:真空镀膜、真空热处理、锂电池真空注液、化工防爆真空反应釜、科研实验室低真空标定。

系统指标

序号 参数 指标
1 类型 绝压
2 原理 MEMS光学干涉
3 量程 1torr、10torr、20torr、50torr、100torr、5kPa、10kPa、16kPa、20kPa、30kPa、40kPa、133.3kPa(1000torr)
4 精度 ±0.25%F.S、±0.5%F.S、±1%F.S
5 超压极限 320kPa
6 封装方式 316L 不锈钢 + 耐腐蚀合金
7 压力接口 M18内螺纹接头、KF16、KF25可选
8 采集频率 100Hz
9 工作温度 真空传感器:-20℃~+85℃;<br>分析仪:5℃~+55℃
10 储存温度 真空传感器:-20℃~+85℃;<br>分析仪:-20℃~+55℃
11 供电类型 额定电压DC 24V,功耗5W
12 尺寸 真空传感器:长度:160±5mm<br>分析仪:长:155±2mm,宽:100±2mm,高:75±2mm
13 重量 真空传感器:430±5g;分析仪:890±5g
14 安装方式 真空传感器:M18内螺纹接头、KF16、KF25可选<br>分析仪:导轨安装
15 光学接口 3/7通道:LC/APC 接口
16 响应时间 ≤100ms
17 设计寿命 真空计在25℃典型运行条件下10年
18 软件功能 支持光谱显示、波长测量、物理量测量等多种工作模式,支持数据、曲线等显示方式,具有在线自诊断功能
19 通讯接口 数字接口:以太网对外通讯(标准TCP-MODBUS协议)、串口对外通讯(标准RTU-MODBUS协议);模拟接口:(0—10)V或4mA—20mA输出

尺寸:

图3 真空传感器
图4 分析仪

组网说明

一表多真空计或多表集群

图5 组网图
图6 一对一真空计组合形式
图7 一对二真空计组合形式
图8 一对三真空计组合形式

配件(可选)

安装接口可根据需要转换,如KF16、KF25等;

图9 KF16、KF25压力接口

分析仪可升级为就地柜,支持单台或多台设备集群。

图10 就地柜布局
图11 就地柜尺寸

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